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高周波磁気デバイスの研究?生産及び新本社設(shè)立に120億円投資

公開(kāi)日:2021-01-12ブラウズ回?cái)?shù):

弊社は、年間5000萬(wàn)個(gè)の高周波磁気デバイス(インダクタ)の生産ライン(敷地3.3萬(wàn)㎡)を投資し、磁性材料基礎(chǔ)科學(xué)研究センター、超微細(xì)金屬粉末研究センター、金屬軟磁コアと高周波デバイス研究センターを持つ新本社(1萬(wàn)㎡)の設(shè)立に120億円を投資することを決定した。

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